酸化物ターゲット

特徴

汎用材料から自社開発の材料まで幅広く取りそろえております。

用途

使用目的に合わせて幅広い分野で利用可能です。

生産体制

山形県の東ソー・スペシャリティマテリアル株式会社にて生産しています。

グローバル体制

日本、韓国、中国、台湾、シンガポール、アメリカ、ヨーロッパに販売拠点を設け、各市場のニーズに応えることのできる販売体制を整えています。

社会貢献

品質、コスト、安定供給、独自性の高い材料によりエレクトロニクス社会を支えています。

ZnOターゲット

当社独自の製法により、添加物を使用することなく低抵抗のターゲットとなっています。そのためDC(直流)放電が可能です(写真参照)。

ZnOターゲット

Al添加ZnOターゲット

当社独自の技術により、添加剤のAl2O3を微細に均一分散させることで、使用初期から末期にわたり安定した放電を可能としています。
良好な結晶構造(写真参照)による低抵抗膜の形成が可能です。

Al添加ZnOターゲット

HDRシリーズ 高速成膜可能な高屈折膜

高屈折膜として使用されているTiO2膜やNb2Ox膜を形成する際、成膜速度の遅さが課題となっています。
当社独自の材料配合により高速成膜可能な材料を開発しました。
光学膜の他にバリア用途、絶縁膜用途でも期待されます。

グレード 屈折率 成膜速度Nb2Ox比
HDR1.9 1.9~2.1 1.2倍
HDR2.1 2.1~2.2 1.5倍
Nb2Ox 2.3~2.4 1

SiO2ターゲット

グループ会社(東ソー・クオーツ株式会社)にてターゲット材を製造しています。材料中の異物、泡が少なく低アーキングな成膜を実現します。
長尺品を1枚物で提供可能です。

FAQ

  • 小型サイズや少量でも購入可能ですか?

    可能です。是非お問い合わせください。

  • ホームページに記載されていない材料を購入できますか?

    可能な場合もございます。お気軽にお問い合わせください。

製品に関するお問い合わせ

お電話でのお問い合わせ

03-5427-5171

高機能材料事業部
電子材料部 薄膜BU