高純度Taターゲット

特徴

常温では灰色無臭の固体。形状は平板型。スパッタ法による薄膜成膜装置に使われます。

用途

主に半導体の製造(バリア層など)に使われています。

グローバル体制

日本、韓国、中国、台湾、シンガポール、アメリカ、ヨーロッパに販売拠点を設け、各市場のニーズに応えることのできる販売体制を整えています。

社会貢献

品質、コスト、安定供給によりエレクトロニクス社会を支えています。

製造拠点

アメリカ合衆国のTosoh SMD, Inc.にて生産しています。

製造拠点

製品ラインナップ

  • Ta(3N5-5N5)

製品に関するお問い合わせ

お電話でのお問い合わせ

03-6636-3739

高機能材料事業部
電子材料部 薄膜BU